从这篇论文的内容来看，大部分的企业认为湿式光刻法确实是一个可行的办法。
方向是没有错，并不代表他们会进行这样的研发。
现如今的光刻法，最大的限制就是光刻机的光源，波长卡在一百九十三纳米。
芯片的制成缩小到六十五纳米的时候，已经无法再进一步发展了。
想要继续发展，光源的波长必须再次缩短。
这个时候，半导体行业巨头尼康和佳能发挥传统技能，选择了保守求稳。
他们寄希望于一百五十七纳米波长光刻，以空气为介质的干式光刻技术上的突破。
只要能够突破这一层，他们就能继续领跑这个行业。
殊不知，这个技术的突破太过于困难。
前世他们研发了多年，最后还是被湿式光刻法超越了。
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